MCVD是Modified Chemical Vapor Deposition的简称，译称改进的化学气相沉积法。该预制棒生产方法是由美国贝尔实验室和英国南安普顿大学于20世纪70年代初期首先提出，并由美国贝尔实验室于1973年发明的。
鉴于MCVD设备在制备不同种类的预制棒上具有很强的灵活性，所以如今它已经成为生产高品质通信光纤用预制棒的四大主要方法之一，并在传感与激光用特种光纤预制棒制造领域拥有较为广泛的应用。
MCVD法可在高质量（高纯度、低水分、低杂质）的石英管（通常称之为衬管)内壁沉积更高纯度的二氧化硅(SiO₂),并掺以可改变折射率或玻璃体粘度的其他一些高纯物质，如二氧化锗(GeO₂),五氧化二磷(P₂O₅）,氟氧化硅（SiOF₂）等，形成不同折射率的芯层和包层，以实现光信号在光纤芯中传播时的全反射、低损耗、高容量等效果。